Polymer light-emitting devices using poly(ethylene oxide) as an electron injecting layer
Corresponding Author: M. V. Madhava Rao
Nano-Micro Letters,
Vol. 2 No. 1 (2010), Article Number: 49-52
Abstract
The performance of polymer light emitting devices (PLEDs) based on polyvinyl carbazole (PVK) is improved by introducing a nanoscale interfacial thin layer, made of poly(ethylene oxide) (PEO), between the calcium cathode and the PVK emissive layer. It is believed that the PEO layer plays a key role in enhancing the device performance. In comparison to the device with Ca/Al as the cathode, the performance of the PLED with PEO/Ca/Al cathode, including the driving voltage, luminance efficiency is significantly improved. These improvements are attributed to the introduction of a thin layer of PEO that can lower the interfacial barrier and facilitate electron injection.
Keywords
Download Citation
Endnote/Zotero/Mendeley (RIS)BibTeX
- J. H. Burroughs, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, O. L. Burns and A. B. Holmes, Nature (London) 347, 539 (1990). doi:10.1038/ 347539a0
- D. Braun and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 58, 1982 (1991). doi:10.1063/1.105039
- J. Kalinowski, Dekker, New York, USA, 2005.
- H. S. Yang and P. H. Holloway, J. Phys. Chem. B 107, 9705 (2003). doi:10.1021/jp034749i
- F. S. Li, Z. J. Chen, W. Wei and Q. H. Gong, Org. Electron. 6, 237 (2005). doi:10.1016/j.orgel.2005.08.002
- C. Tengstedt, A. Crispin, C. H. Hsu, C. Zhang, D. Parker, W. R. Salaneck and M. Fahlman, Org. Elect. 6, 21 (2005). doi:10.1016/j.orgel.2005.02.001
- S. Coe. Sulliyan, W. K. Woo, J. S. Steckel, M. Bawendi and V. Bulovic, Org. Elect. 4, 123 (2003).
- M. Cocchi, J. Kalinowski, D. Virgili and J. A. G. Williams, Appl. Phys. Lett. 92, 113302 (2008). doi:10.1063/1.289 8159
- I. D. Parker, Y. Cao and C. Y. Yang, J. Appl. Phys. 85, 2441 (1999). doi:10.1063/1.369564
- L. S. Hung, C. W. Tang and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997). doi:10.1063/1.118344
- Y. Cao, G. Yuand and A. J. Heeger, Adv. Mater. 10, 917 (1998). doi:10.1002/(SICI)1521-4095(199808)10:12<917: AID-ADMA917>3.0.CO;2-K
- P. Piromerium, H. Oh, Y. Shen, G. G. Malliaras, J. C. Scott and P.J. Brock, Appl. Phys. Lett. 77, 2403 (2000). doi:10.1063/1.1317547
- F. Li, H. Tang, J. Anderegg and J. Shinar, Appl. Phys. Lett. 70, 1233 (1997). doi:10.1063/1.118539
- H. M. Lee, K. H. Choi, D. H. Hwang, L. M. Do, T. Zyung, J. W. Lee and J. K. Park, Appl. Phys. Lett. 72, 2382 (1998). doi:10.1063/1.121363
- T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, T. C. Wen, S. N. Hsieh, Y. S. Fu and C. T. Chung, Appl. Phys. Lett. 88, 113501 (2006). doi:10.1063/1.2183808
- T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, G. W. Feng, T. C. Wen, S. N. Hsieh, C. T. Chung and C. I. Wu, Appl. Phys. Lett. 89, 051103 (2006). doi:10.1063/1.2234317
- T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, T. C. Wen, C. I. Wu and C. T. Chung, Appl. Phys. Lett. 89, 053507 (2006). doi:10.1063/1.2266571
- J. W. Stouwdam and R. A. J. Janssen, J. Mater. Chem. 18, 1889 (2008). doi:10.1039/b800028j
- T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, T. C. Wen, S. N. Hsieh and Y. W. Fu, Appl. Phys. Lett. 87, 013504 (2005). doi:10.1063/1.1984101
- R. K. Ligman, L. Mangolini, U. R. Kortshagen and S. A. Campbell, Appl. Phys. Lett. 90, 061116 (2007). doi:10. 1063/1.2471662
References
J. H. Burroughs, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, O. L. Burns and A. B. Holmes, Nature (London) 347, 539 (1990). doi:10.1038/ 347539a0
D. Braun and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 58, 1982 (1991). doi:10.1063/1.105039
J. Kalinowski, Dekker, New York, USA, 2005.
H. S. Yang and P. H. Holloway, J. Phys. Chem. B 107, 9705 (2003). doi:10.1021/jp034749i
F. S. Li, Z. J. Chen, W. Wei and Q. H. Gong, Org. Electron. 6, 237 (2005). doi:10.1016/j.orgel.2005.08.002
C. Tengstedt, A. Crispin, C. H. Hsu, C. Zhang, D. Parker, W. R. Salaneck and M. Fahlman, Org. Elect. 6, 21 (2005). doi:10.1016/j.orgel.2005.02.001
S. Coe. Sulliyan, W. K. Woo, J. S. Steckel, M. Bawendi and V. Bulovic, Org. Elect. 4, 123 (2003).
M. Cocchi, J. Kalinowski, D. Virgili and J. A. G. Williams, Appl. Phys. Lett. 92, 113302 (2008). doi:10.1063/1.289 8159
I. D. Parker, Y. Cao and C. Y. Yang, J. Appl. Phys. 85, 2441 (1999). doi:10.1063/1.369564
L. S. Hung, C. W. Tang and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997). doi:10.1063/1.118344
Y. Cao, G. Yuand and A. J. Heeger, Adv. Mater. 10, 917 (1998). doi:10.1002/(SICI)1521-4095(199808)10:12<917: AID-ADMA917>3.0.CO;2-K
P. Piromerium, H. Oh, Y. Shen, G. G. Malliaras, J. C. Scott and P.J. Brock, Appl. Phys. Lett. 77, 2403 (2000). doi:10.1063/1.1317547
F. Li, H. Tang, J. Anderegg and J. Shinar, Appl. Phys. Lett. 70, 1233 (1997). doi:10.1063/1.118539
H. M. Lee, K. H. Choi, D. H. Hwang, L. M. Do, T. Zyung, J. W. Lee and J. K. Park, Appl. Phys. Lett. 72, 2382 (1998). doi:10.1063/1.121363
T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, T. C. Wen, S. N. Hsieh, Y. S. Fu and C. T. Chung, Appl. Phys. Lett. 88, 113501 (2006). doi:10.1063/1.2183808
T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, G. W. Feng, T. C. Wen, S. N. Hsieh, C. T. Chung and C. I. Wu, Appl. Phys. Lett. 89, 051103 (2006). doi:10.1063/1.2234317
T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, T. C. Wen, C. I. Wu and C. T. Chung, Appl. Phys. Lett. 89, 053507 (2006). doi:10.1063/1.2266571
J. W. Stouwdam and R. A. J. Janssen, J. Mater. Chem. 18, 1889 (2008). doi:10.1039/b800028j
T. F. Guo, F. S. Yang, Z. J. Tsai, T. C. Wen, S. N. Hsieh and Y. W. Fu, Appl. Phys. Lett. 87, 013504 (2005). doi:10.1063/1.1984101
R. K. Ligman, L. Mangolini, U. R. Kortshagen and S. A. Campbell, Appl. Phys. Lett. 90, 061116 (2007). doi:10. 1063/1.2471662